• 1.薄膜形成技術
• 2.1960 年代の真空蒸着装置
• 3.金属薄膜ミラーの応用と問題点
• 4.金属表面の反射スペクトル
• 5.金属反射の物理的起源
• 6.光学薄膜の発端は無反射膜
• 7.吸収のない物質で反射膜を作り出す誘電体多層膜
• 8.より高度な無反射膜の形成法
• 9.オーバーコート保護膜の必要性
• 10.自身が経験してきた蒸着技術
• 11.薄膜の微細構造、グレイン形成
• 12.共振周波数の測定から電子ビーム蒸着に異方性が観測された。
• 13.レーザー損傷検出
• 14.米国ロスアラモス研究所による体系的研究
• 15.KrF レーザー用高耐力誘電体多層膜の開発の歴史
• 16.光音響計測法の開発 発想のきっかけ
• 17.もっとも感度の良いアルファフォン計測
• 18.光音響信号を閉じ込める
• 19.電気回路や磁気回路はどうなっているのだろう
• 20.実際に用いた計測システム
• 21.単層膜の微小吸収計測
• 22.薄膜材料の吸収係数の相対比較
• 23.米国 LLNL のデータ比較
• 24.光音響法は基板の多光子吸収まで測定可能にした。
• 25.レーザー損傷検出は非常に容易
• 26.重要な発見、吸収係数と損傷強度の相関関係
• 27.フッ化物多層膜ミラー損傷しきい値の測定
• 28. 1 光子領域と 2 光子領域におけるレーザー損傷
• 29.フッ化物/フッ化物薄膜によって損傷強度は米国の 3倍18J/cm2に
• 30.フッ化物ペアの光学薄膜の開発に成功
• 31.レーザー損傷の前躯現象はあるのか?
• 32.光音響と光散乱の同時計測
• 33.高強度多重ショット照射による PAS 信号のばらつき
• 34.明確なアニーリング効果を確認した
• 35.これまでのまとめ
• 36.付録／光音響法が機械共振信号を検出する
• 37.超音波光学系を利用すればもっと感度が上がるのでは
• 38.やり損ねた研究 その2
• 39.役立つ関連情報
• 40.さらに光学薄膜の膜厚不均一が検出されました