第5章 ミクロレーザープロセシング

8. マスクリペアー

著者:小田嶋 孝広

1. はじめに

 近年、レーザーマスクリペアは、LSIなどの高集積半導体デバイスあるいはデジタル家電の一つとして最近特に需要が旺盛な液晶ディスプレイ(LCD)の製造工程では必要不可欠な製造設備になってきた。高集積半導体デバイスの半導体ウェハやしCD用のTFT(Thin Film Transistor)アレイ基板などには、回路パターンを転写するための原版となるフォトマスクに対し製造工程上さまざまな欠陥が発生する。フォトマスクは、写真でいうところのネガに相当するもので、露光機により回路パターンを半導体ウェハやTFTアレイに転写することで複製品を大量に生産するためのものである。フォトマスクメーカ各社ともこの欠陥の発生を最小限またはゼロにすべく多大な努力、エ法改善、工程の開発などを行ってきているが、半導体用ではデザインルールの微細化に伴って、あるいはLCD用では大面積化と同時に高精細化に伴って、欠陥の発生割合は年々増加傾向になっている。原版となるフォトマスクに欠陥が存在した状態で回路パターンを転写してしまうと、欠陥が存在した半導体ウエハやTFTアレイ基板を大量に生産することになる。レーザーマスクリペアはフォトマスクに発生するこれらの欠陥を修正することで、本来、欠陥により不良となるフオトマスクを正常品へと転換させる装置である。
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