第5章 ミクロレーザープロセシング

5. エキシマレーザーリソグラフィ

著者:鳥海 実

1. 概要

 今日の高度情報化社会は、高性能の半導体デバイスを用いた情報通信網およびコンピュータが支えている。高性能の半導体素子は、電気製品の高機能化、多機能化を可能とし、新規製品を開発することにより新規産業にも展開されている。次々と高機能の半導体素子を製造できるのは、その素子の演算速度、記憶密度などの性能が年々向上しているためである。この高性能の素子を製造する方法が微細加工技術であるリソグラフィである。半導体リソグラフィは半導体産業にとどまらず、今日では情報化社会も支え、リソグラフィを応用した加速度センサーやマイクロミラーなどの新しい素子が製造され、ナノテクノロジーやマイクロメカニクスなどの新規産業に展開されつつある。エキシマーレーザーはこのリソグラフィに用いられる露光装置の光源として重要な役割を果たしている。ここでは、現在量産化が始まったArFエキシマレーザーリソグラフィを中心に説明し、実験室レベルでの二光束干渉法やリソグラフィ材料の評価方法であるQCM法などの説明も含めながら、次世代リソグラフィであるArF液浸リソグラフィの最新動向まで述べる。
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