パルスランプやCWランプは現代の工業分野では必要不可欠となっている。特にレーザーの励起光源として用いられており、ランプ励起の高出力レーザーの応用先としては、レーザー加工、レーザー医療、写真撮影、EUV発生、分光等と非常に多岐である。レーザー励起ランプには、レーザー媒質のレーザー上準位の反転分布を満たす非常に強い光学励起パワーが要求される。よって、高電圧、高電流下でのフラッシュランプの動作解析は重要である。

ランプのパルス動作

パルス動作のフラッシュランプは主にRLCから成る放電回路によって動作している。これらは高電圧充電とスイッチモードパルスによって動作している。昨今、パルスレーザーランプの普及に伴い矩形波電源供給によるランプ動作も増加してきたが、電子回路で動作するパルスランプ中の物理現象は本質的に同一である。

RLCから成るパルス波形放電回路動作及び矩形波電源供給動作のフラッシュランプ動作では、パルス波形放電回路の時定数を含む計算等が、矩形波電源供給動作には応用できないといった相違点はあるものの、パルスエネルギー・パルス幅・寿命等の取り扱いは2つの動作回路で同様である。

ⅰ) パルス波形動作回路

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