レーザープラズマX線源(laser plasma X-ray source)とは

食卓程度のテーブル上にのる小型高繰返しレーザーを高圧ガス,固体(テープなど),液体(液滴など)に集光照射し,瞬時に高温高密度プラズマを生成し,得られる高輝度微小X線源のこと波長1 nm以上の軟X線領域が主として詳しく研究されてきた.半導体レーザー励起固体レーザーの著しい性能向上により,このX線源の小型高繰返し化が進み,X線リソグラフィー,X線顕微鏡などのX線源として実用化を目指した研究が各国で活発におこなわれている.またチャープパルス増幅法を用いた小型超短パルス高出力レーザー(いわゆるT3(table-top TW Ti:sapphire)レーザー)を用いたX線光子エネルギー数keV~数MeVのX線源実用化も検討されはじめた.