近赤外レーザーパターニング(near-IR laser patterning)とは

波長600~1500 nm程度の近赤外レーザー光を用いて材料表面にパターン形成をおこなう技術．数百nm~μm程度の解像度のパターンを高速で作製する技術として注目される．近年の半場体レーザーの小型化-高出力化により，印刷関連分野を中心に広く研究・実用化が進められている．光子エネルギーが小さいため直接化学結合の切断には至らず，振動励起による熱的な効果がパターニングの主機構造となる高分子など，有機材料の加工，特にアブレーション加工の場合，この熱効果によるパターンの乱れが著しく，普及を妨げる要因となっている．