光リソグラフィー(optical lithography)とは
光リソグラフィーは集積回路を製作する行程の一つで,ウェーハにレジストと呼ばれる感光材を薄く均一に塗布し,ガラス乾板上の集積回路パターンを光で焼き付け,転写する技術である.DRAMなど超LSIメモリの製作には波長の短い紫外線が利用されているが,加工の微細化とともに,デザインルール0.35 μm前後の64メガビットDRAM製作の第二世代あたりから,それまでの高圧水銀灯のI線(波長365 nm)に代わりKrFエキシマレーザー(波長248 nm)が使用されはじめており,さらに微細な256メガビットDRAM,1メガビットDRAMの製作にはArFレーザーも含めてエキシマレーザーが光源に使用されるものと見られている.→紫外リソグラフィー