パルスレーザー堆積法(レーザーアブレーション法)(pulsed laser deposition:PLD)とは

薄膜堆積用材料に対して光吸収係数の大きな波長のレーザーを用いて,材料をアブレーションし,対向する基板に薄膜を堆積する技術.真空一貫ドライブプロセスである.アブレーンョンプルームは高エネルギー粒子で構成されているので,堆積基板が低温でもエピタキシャル成長ができる.各積雰囲気中で薄膜が作製可能で,化学量論比でかつ平坦な光学薄肢が成長できる.酸素雰囲気中でも成膜可能であることから,酸化物薄膜を得意とする.作製膜としては,高温超伝導体薄膜,強誘電体薄膜,強磁性体薄膜,レーザー結晶薄膜,非線形光学薄膜など多岐にわたっている.PLDはMBE(molecular beam epitaxy)やMOCVD(metal-organic chemicalvapor deposition)と同様に高品質の薄膜が作製可能であり,いまやレーザープロセンングの代表的な薄膜技術に成長した.→レーザーMBE,SRアブレーション法