SRアブレーション法(synchrotron radiation ablation)とは

放射光(synchrotronradiation:SR)をターゲットに照射し，照射し，昇華，蒸発させて薄膜を作製する方法．レーザーアブレーション(laser ablationまたはpulsed laser ablation)では，高強度でパルス幅が数~数十nsのレーザー光パルスを集光してターゲットの極表面のみを励起，超高温にして蒸発昇華させるが，本方法では，SRからの高エネルギーの軟X線を物体に照射し，高励起の分子，原子，イオン(多価を含む)にして基板上に堆積して薄膜を形成することにより薄膜形成温度の低減化，新物質の創製が期待されている．テフロンで試みられ，通常より1桁高い成長速度が得られ，ほかの物質の薄膜形成が期待されている．→パルスレーザー堆積法，波射光励起プロセス