パルスレーザー堆積法(レーザーアブレーション法)(pulsed laser deposition:PLD)とは

薄膜堆積用材料に対して光吸収係数の大きな波長のレーザーを用いて，材料をアブレーションし，対向する基板に薄膜を堆積する技術．真空一貫ドライブプロセスである．アブレーンョンプルームは高エネルギー粒子で構成されているので，堆積基板が低温でもエピタキシャル成長ができる．各積雰囲気中で薄膜が作製可能で，化学量論比でかつ平坦な光学薄肢が成長できる．酸素雰囲気中でも成膜可能であることから，酸化物薄膜を得意とする．作製膜としては，高温超伝導体薄膜，強誘電体薄膜，強磁性体薄膜，レーザー結晶薄膜，非線形光学薄膜など多岐にわたっている．PLDはMBE(molecular beam epitaxy)やMOCVD(metal-organic chemicalvapor deposition)と同様に高品質の薄膜が作製可能であり，いまやレーザープロセンングの代表的な薄膜技術に成長した．→レーザーMBE，SRアブレーション法